檢索結果:共2筆資料 檢索策略: "sputtering deposition".ekeyword (精準) and ckeyword.raw="反應式離子束濺鍍"
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此研究以反應式離子束濺鍍法於SiO2/Si基版及石英基板上沉積氧化銅/氧化亞銅薄膜,探討氬/氧流量及基板溫度對所沉積氧化銅/氧化亞銅薄膜之影響。研究結果顯示在300℃或400℃所沉積之氧化銅/氧化亞…
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本研究成功利用陽極層離子源之反應式離子束濺鍍沉積氧化鈷與氧化鈷銅薄膜,薄膜分別於製程溫度150℃與300℃下以不同氧氣流量比沉積於矽基板與石英基板上,實驗結果顯示,於150℃下沉積之薄膜皆屬非晶薄膜…